1-(4-Butoxi-1-naftalenil)tetrahidro-tiofenio perfluorobutanosulfonato CAS#: 209482-18-8; ChemWhat Código: 1499796
Identificación
| Nombre del producto | 1-(4-Butoxi-1-naftalenil)tetrahidro-tiofenio perfluorobutanosulfonato |
| Nombre IUPAC | 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate |
| Estructura molecular |  |
| Número de registro CAS | 209482-18-8 |
| Número EINECS | No hay datos disponibles |
| Número de MDL | No hay datos disponibles |
| Número de registro de Beilstein | No hay datos disponibles |
| Sinónimos | 1-(4-n-butoxynaphthalen-1-yl)tetrahydrothiophenium nonafluoro-n-butanesulfonate1-(4-butoxynaphthyl)thiolanium perfluorobutylsulfonate |
| Fórmula molecular | C22H23F9O4S2 |
| Peso molecular | 586.5 |
| InChI | InChI=1S/C18H23OS.C4HF9O3S/c1-2-3-12-19-17-10-11-18(20-13-6-7-14-20)16-9-5-4-8-15(16)17;5-1(6,3(9,10)11)2(7,8)4(12,13)17(14,15)16/h4-5,8-11H,2-3,6-7,12-14H2,1H3;(H,14,15,16)/q+1;/p-1 |
| Clave InChI | WNDABSCBNOUSTE-UHFFFAOYSA-M |
| Canónico SMILES | CCCCOC1=CC=C(C2=CC=CC=C21)[S+]3CCCC3.C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(C(F)(F)F)(F)F |
| Información de patentes | ||
| Identificación de la patente | Título | Fecha de publicación |
| TWI579263 | COMPOSICIÓN DE RESINA SENSIBLE A LOS RAYOS ACTÍNICOS O A LA RADIACIÓN Y MÉTODO DE FORMACIÓN DE PATRONES QUE UTILIZA LA MISMA | 2017 |
| US8889336 | Composición de resina sensible a la radiación y agente generador de ácido sensible a la radiación | 2014 |
Datos físicos
| Apariencia | Polvo blanco a blanquecino |
| Solubilidad | No hay datos disponibles |
| Punto de inflamabilidad | No hay datos disponibles |
| Índice de refracción | No hay datos disponibles |
| Sensibilidad | No hay datos disponibles |
Spectra.
| Descripción (espectroscopia de RMN) | Núcleo (espectroscopia de RMN) | Disolventes (espectroscopia de RMN) | Frecuencia (espectroscopia de RMN), MHz |
| Desplazamientos químicos, espectro | 1H | cloroformo-d1 | 400 |
| Desplazamientos químicos, espectro | 19F | cloroformo-d1 | 400 |
| Descripción (Espectroscopia UV / VIS) | Solvente (espectroscopia UV / VIS) | Máxima de absorción (UV / VIS), nm | Ext./Abs. Coeficiente, l · mol-1cm-1 |
| Máximos de absorción | acetonitrilo | 193 | 21.54 |
Ruta de Síntesis (ROS)
| Condiciones | Rendimiento |
| En diclorometano a -5℃; durante 6 h; Disolvente; | 89.8% |
Seguridad y riesgos
| Declaraciones de peligro GHS | No clasificado |
Otros datos
| Transporte | NO para todos los modos de transporte |
| Bajo la temperatura ambiente y lejos de la luz. | |
| Código SA | No hay datos disponibles |
| Almacenaje | Bajo la temperatura ambiente y lejos de la luz. |
| Vida útil | Un año |
| Precio de mercado | USD |
| Semejanza a las drogas | |
| Componente de reglas de Lipinski | |
| Peso molecular | 586.54 |
| iniciar sesión | 8.752 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| Reglas a juego de Lipinski | 2 |
| Componente de reglas veber | |
| Área de superficie polar (PSA) | 74.81 |
| Enlace rotativo (RotB) | 9 |
| Reglas Veber a juego | 2 |
| Patrón de uso |
| Este material se utiliza principalmente en la industria de la microelectrónica y los semiconductores: Fotorresistencias para fotolitografía: genera un ácido fuerte al exponerse a la luz ultravioleta, lo que permite la amplificación química en las formulaciones de fotorresistencias. Fabricación de semiconductores: se utiliza en procesos litográficos avanzados para la transferencia de patrones a obleas de silicio. Productos químicos electrónicos: se suministra como un intermedio de material electrónico especializado para la fabricación de circuitos integrados y procesos de microfabricación relacionados. Investigación y desarrollo de sistemas de fotorresistencias con amplificación química y otras tecnologías de recubrimiento sensibles a la luz ultravioleta. Los proveedores generalmente lo comercializan para investigación y aplicaciones de materiales electrónicos industriales, en lugar de para usos farmacéuticos o de consumo. |
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