Sal de trifenilsulfonio con 1-(triciclo[3.3.1.13,7]dec-1-ilmetil) 2,2-difluoro-2-sulfoacetato (1:1) CAS#: 1022939-88-3; ChemWhat Código: 1491748

Sal de trifenilsulfonio con 1-(tricic

IdentificaciónDatos físicosSpectra.
Ruta de Síntesis (ROS)Seguridad y riesgosOtros datos

Identificación

Nombre del productoSal de trifenilsulfonio con 1-(triciclo[3.3.1.13,7]dec-1-ilmetil) 2,2-difluoro-2-sulfoacetato (1:1)
Nombre IUPAC2-(1-adamantilmetoxi)-1,1-difluoro-2-oxoetanosulfonato;trifenilsulfanio
Estructura molecularEstructura de la sal de trifenilsulfonio con 1-(triciclo[3.3.1.13,7]dec-1-ilmetil) 2,2-difluoro-2-sulfoacetato (11) CAS 1022939-88-3
Número de registro CAS 1022939-88-3
Número EINECSNo hay datos disponibles
Número de MDLNo hay datos disponibles
Número de registro de BeilsteinNo hay datos disponibles
Sinónimos1-adamantilmetoxicarbonildifluorometanosulfonato de trifenilsulfonio
Fórmula molecularC31H32F2O5S2
Peso molecular586.7
InChIInChI=1S/C18H15S.C13H18F2O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,21(17,18)19)11(16)20-7-12-4-8-1-9(5-12)3-10(2-8)6-12/h1-15H;8-10H,1-7H2,(H,17,18,19)/q+1;/p-1
Clave InChIOPUSNKQMMLRYMS-UHFFFAOYSA-M
Canónico SMILESC1C2CC3CC1CC(C2)(C3)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3
Información de patentes
Identificación de la patenteTítuloFecha de publicación
US2016 / 168115SAL, GENERADOR DE ÁCIDO, COMPOSICIÓN DE RESISTENCIA Y MÉTODO PARA PRODUCIR PATRÓN DE RESISTENCIA2016
 JP2018 / 145179SAL, GENERADOR DE ÁCIDO, COMPOSICIÓN DE RESISTENCIA Y MÉTODO PARA PRODUCIR PATRÓN DE RESISTENCIA2018

Datos físicos

AparienciaPolvo blanco a blanquecino
SolubilidadNo hay datos disponibles
Punto de inflamabilidadNo hay datos disponibles
Índice de refracciónNo hay datos disponibles
SensibilidadNo hay datos disponibles

Spectra.

Núcleo (espectroscopia de RMN)Disolventes (espectroscopia de RMN)Texto original (espectroscopia de RMN)
1Hcloroformo-d11H RMN (disolvente de medición: cloroformo de deuterio, material de referencia: tetrametilsilano); δ=7.72 (m, 15H; TPS), 3.85 (s, 2H; CH2), 1.92 (m, 3H; 1-Ad), 1.62 (m, 12H; 1-Ad).
1Hcloroformo-d119F RMN (disolvente de medición: cloroformo de deuterio, material de referencia: triclorofluorometano); δ=-110.0 (s, 2F; CF2).
Descripción (espectrometría de masas)Comentario (espectrometría de masas)En pleno
ESI (ionización por electropulverización), LCMS (espectrometría de masas por cromatografía líquida)Pico molecular
ESI (ionización por electropulverización)Pico molecular263.2 m / z
LCMS (espectrometría de masas por cromatografía líquida), ESI (ionización por electropulverización)
LCMS (espectrometría de masas por cromatografía líquida), ESI (ionización por electropulverización)
Descripción (Espectroscopia UV / VIS)
Spectrum

Ruta de Síntesis (ROS)

Ruta de síntesis (ROS) de la sal de trifenilsulfonio con 1-(triciclo[3.3.1.13,7]dec-1-ilmetil) 2,2-difluoro-2-sulfoacetato (11) CAS# 1022939-88-3
Ruta de síntesis (ROS) de la sal de trifenilsulfonio con 1-(triciclo[3.3.1.13,7]dec-1-ilmetil) 2,2-difluoro-2-sulfoacetato (11) CAS# 1022939-88-3
CondicionesRendimiento
En agua a 80℃;100%
En metanol; agua durante 15h;

Seguridad y riesgos

Declaraciones de peligro GHSNo clasificado

Otros datos

TransporteNO para todos los modos de transporte
Bajo la temperatura ambiente y lejos de la luz.
Código SANo hay datos disponibles
AlmacenajeBajo la temperatura ambiente y lejos de la luz.
Vida útil2 años
Precio de mercadoUSD
Semejanza a las drogas
Componente de reglas de Lipinski
Peso molecular586.721
iniciar sesión8.553
HBA5
HBD0
Reglas a juego de Lipinski2
Componente de reglas veber
Área de superficie polar (PSA)91.88
Enlace rotativo (RotB)8
Reglas Veber a juego2
Patrón de uso
Función principal: generador de fotoácido (PAG)
Absorbe luz y sufre escisión fotolítica.
Produce un ácido fuerte (ácido difluorometanosulfónico).
El ácido generado puede catalizar reacciones químicamente amplificadas o iniciar la polimerización catiónica posterior. Es un aditivo funcional clave en los sistemas de curado de fotorresinas y fotopolímeros catiónicos.
II. Principales áreas de aplicación
1. Fotorresistencias semiconductoras (fotorresistencias químicamente amplificadas, CAR)
Aplicable a:
Sistemas de litografía i-line, KrF y ArF
Fotorresistencias químicamente amplificadas de alta resolución
Funciones principales:
Generación de ácido por exposición
Cataliza reacciones de desprotección.
Amplifica los efectos de exposición → mejora la resolución, la sensibilidad y el control de la dimensión crítica/rugosidad del borde de línea (CD/LER)
Ventajas de la estructura de adamantilo:
Proporciona alta estabilidad térmica.
Reduce la difusión del ácido → mejora la resolución y la rugosidad de los bordes de la línea
Mejora el rendimiento óptico y la estabilidad de la formulación de fotorresistencias.
Sistemas de fotocurado catiónico
Se utiliza en el curado catiónico inducido por UV de resinas epoxi y materiales de éter vinílico.
Irradiación UV → generación de ácido → inicia la polimerización por apertura de anillo catiónico o reticulación
Las aplicaciones incluyen:
Recubrimientos y tintas curables por UV
Materiales de encapsulación electrónica
Capas aislantes fotomodelables (por ejemplo, PSPI, PI)

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